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深度分析

EvoDRC 框架：以 LLM 代理自動修復晶片 DRC 違規，減少近七成人工 ECO 工時

在先進製程晶片設計中，設計規則檢查（DRC）的閉合一直是後端物理設計的主要瓶頸。雖然繞線器已具備規則感知能力，但殘留的設計規則違規（DRV）仍需工程師以工程變更命令（ECO）迭代手動修復，耗時數天甚至數週。為解決此問題，研究團隊提出了 EvoDRC，一個具備技能演化能力的代理式 DRC 修復框架。