深度分析
EvoDRC 框架：以 LLM 代理自動修復晶片 DRC 違規，減少近七成人工 ECO 工時
在先進製程晶片設計中，設計規則檢查（DRC）的閉合一直是後端物理設計的主要瓶頸。雖然繞線器已具備規則感知能力，但殘留的設計規則違規（DRV）仍需工程師以工程變更命令（ECO）迭代手動修復，耗時數天甚至數週。為解決此問題，研究團隊提出了 EvoDRC，一個具備技能演化能力的代理式 DRC 修復框架。
深度分析
在先進製程晶片設計中，設計規則檢查（DRC）的閉合一直是後端物理設計的主要瓶頸。雖然繞線器已具備規則感知能力，但殘留的設計規則違規（DRV）仍需工程師以工程變更命令（ECO）迭代手動修復，耗時數天甚至數週。為解決此問題，研究團隊提出了 EvoDRC，一個具備技能演化能力的代理式 DRC 修復框架。
深度分析
在EDA流程收尾階段,工程師常需修復簽核級DRC錯誤並收斂PPA目標。本文提出PostEDA-Bench,建立含DRC-Bench與PPA-Bench的145項階層式基準,支援OpenROAD與商業工具,以機器可檢驗方式評估代理人的修復與優化能力。實驗顯示代理人在合成性任務表現佳但對實務幾何推理與多目標取捨顯著退化。